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產品分(fen)類(lei)
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532產品描(miao)述(shu)
GU-AI系列(lie)離(li)子加工(gong)儀(yi)器采用無(wu)磁聚(ju)集(ji)離子束(shu)設(she)計(ji)，實現高(gao)效(xiao)大面(mian)積樣(yang)品加工(gong)，減少(shao)樣品表(biao)面(mian)損(sun)傷，獲(huo)取真實內部結(jie)構(gou)信(xin)息(xi)。其中GU-AI9000離(li)子減(jian)薄(bo)儀(yi)能夠將(jiang)多種(zhong)材料(liao)加工(gong)成厚(hou)度小(xiao)於200微(wei)米的納米級薄(bo)片，適(shi)用於透(tou)射電鏡樣(yang)品制(zhi)備(bei)。
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Leica EM ACE600廠(chang)商性(xing)質
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622產品描(miao)述(shu)
Leica EM ACE600 高(gao)真(zhen)空(kong)鍍膜儀(yi)是壹(yi)款多功能型(xing)高(gao)真(zhen)空(kong)鍍膜系統(tong)，用 於制(zhi)備(bei)超(chao)薄，細顆粒(li)的導電金屬(shu)膜和碳(tan)膜，以(yi)適用於 FE-SEM 和 TEM 超(chao)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)分(fen)析所需的鍍膜要求。
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EM TXP廠(chang)商性(xing)質
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489產品描(miao)述(shu)
徠卡EM TXP 精(jing)研(yan)壹(yi)體(ti)機(ji)標靶(ba)面(mian)制(zhi)備(bei)系統(tong)具有定(ding)點修(xiu)塊(kuai)拋(pao)光功能，是用鋸(ju)，磨，銑削，拋(pao)光樣(yang)品後(hou)，供(gong)掃描(miao)電鏡，透(tou)射電鏡，和LM技術檢(jian)測。帶(dai)有壹(yi)體(ti)化體(ti)視鏡(jing)，用於精確(que)定(ding)位(wei)及(ji)對較(jiao)細微(wei)難以(yi)觀(guan)察(cha)的目標位(wei)置進(jin)行樣(yang)品處理(li)時(shi)觀(guan)察(cha)；使用樣(yang)品旋轉(zhuan)手柄(bing)，可以(yi)改(gai)變樣品觀(guan)察(cha)角度，0°－60°可調(tiao)，或者(zhe)垂直(zhi)於樣品前表(biao)面(mian)90°觀(guan)察(cha)，可利(li)用目鏡刻(ke)度標(biao)尺(chi)測量(liang)距(ju)離(li)。
產品型(xing)號
GU-SP2000廠(chang)商性(xing)質
代(dai)理商更(geng)新時(shi)間
2025-04-11瀏(liu)覽次(ci)數
424產品描(miao)述(shu)
全自(zi)動(dong)磁控(kong)離(li)子濺射儀(yi)是壹(yi)款註(zhu)重(zhong)安全與(yu)用戶(hu)體(ti)驗(yan)的多功能濺射儀(yi)，具有多重安全防(fang)護措施(shi)及(ji)自(zi)動(dong)切斷(duan)功能，確(que)保(bao)操作(zuo)安全。配(pei)備(bei)5英寸(cun)液晶(jing)顯(xian)示(shi)屏，簡化操作(zuo)流程，支持(chi)自(zi)動(dong)調(tiao)節(jie)真(zhen)空度與(yu)樣品臺(tai)高(gao)度調(tiao)節(jie)，提(ti)供(gong)直觀(guan)的濺射電流和真空度曲(qu)線(xian)顯示(shi)，記(ji)錄(lu)靶(ba)材使用時(shi)間及(ji)設(she)備(bei)運行(xing)狀(zhuang)態(tai)。內(nei)置操(cao)作(zuo)向(xiang)導，便於新手(shou)快速上手，適用於各類(lei)樣品，特別(bie)是溫度敏感(gan)材料(liao)，能實現(xian)高(gao)質量(liang)鍍膜，滿(man)足(zu)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)觀(guan)測需求。
產品型(xing)號
EM ACE200廠(chang)商性(xing)質
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2025-04-10瀏(liu)覽次(ci)數
418產品描(miao)述(shu)
Leica EM ACE200 低(di)真空鍍膜機(ji)是壹(yi)款高(gao)品質臺(tai)式鍍膜儀(yi)，用來(lai)制(zhi)備(bei)電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)所需的均勻(yun)的金屬(shu)導電膜或碳(tan)膜。 這(zhe)款自(zi)動(dong)化設(she)備(bei)既(ji)可以(yi)配(pei)置成濺射鍍膜儀(yi)又可以(yi)配(pei)置成碳(tan)絲(si)蒸發鍍膜儀(yi)。或者(zhe)，根據(ju)需要，Leica EM ACE200 可以(yi)在壹(yi)臺(tai)設(she)備(bei)上裝(zhuang)配(pei)可調(tiao)換(huan)鍍膜源(yuan)，實(shi)現兩種(zhong)鍍膜方(fang)式。
當前(qian)位(wei)置：
